فرن تبريد كهربائي رأسي 500*500*650 مم، فرن كهربائي للخزف الإلكتروني

فرن خزان كهربائي صناعي للتخمير السيراميكي مع معالجة حرارية في الغلاف الجوي للنيتروجين/الهيدروجين بأبعاد غرفة فعالة 500 × 500 × 650mm (W × H × D).

مصممة لمعالجة الحرارة في درجة حرارة متوسطة للمنتجات الإلكترونية، بما في ذلك معالجة الغلاف الجوي للنيتروجين/الهيدروجين للسيراميك الإلكتروني والوسائط والموصلات.

• رقم الطراز:HWF100-10NH
• أبعاد الخزان:630 × 900mm (d × D)
• الأبعاد الفعلية للغرفة:400 × 400 × 650mm (W × H × D)
• درجة حرارة العمل القصوى:1000 درجة مئوية
• درجة حرارة العمل طويلة الأمد:900 درجة مئوية
• طريقة التسخين:سخان الألياف السيراميكية FEC
• العزل الحراري:منتجات الألومينا الحارقة
• طريقة التبريد:التبريد داخل الفرن
• تحكم درجة الحرارة:ثلاث نقاط مستقلة (أمام، وسط، خلف)
• جهاز التحكم:جهاز التحكم الذكي الياباني ياماتا
• شرائح البرنامج:9
• إمدادات الطاقة:380 ± 10% فولت، ثلاث مراحل 5 أسلاك، 50 هرتز
• القوة القصوى:30كيلوواط
• قوة العزل الحراري:≤15كيلوواط

1. الظروف البيئية:درجة الحرارة: 0~40°C، الرطوبة ≤ 80%RH، لا غازات آكلة، لا اضطرابات قوية في تدفق الهواء
2. N2 الشروط:99نقاء 999%، ضغط العمل: 0.2-0.4MPa، استهلاك الغاز الأقصى 2-6 م3/ساعة
3. شروط H2:ضغط العمل: 0.2-0.4MPa، استهلاك الغاز القصوى 0.2-0.6m3/h
4. ظروف المياه:نظيفة، غير معطلة، ضغط العمل 0.1-0.3MPa، 1-3L/min
5. نظام التهوية:الوصول دون اتصال إلى نظام ضخ المستخدم (> 10m3 / h)
6. متطلبات أساسية:الأفقي، الحد الأدنى من الاهتزاز، تحمل الحمل > 500 كجم/م2
7. حالة الطاقة:طاقة > 40kVA ، ثلاث مراحل 5 خطوط ، 220/380V ، 50Hz
8. موقع التثبيت:3200×2500×3000ملم (D×W×H) ، مساحة >8م2

عن (تشيتيرم)

شركة هيفي تشيثيرم للمعدات المحدودة متخصصة في البحث والتطوير وتصنيع الأفران الصناعية لتطبيقات درجات الحرارة العالية والمتوسطة والمنخفضة.مجموعة منتجاتنا تشمل أفران الجرس، أفران الصندوق، أفران الفراغ، أفران الأنابيب، والحلول المتخصصة للسيراميك المتقدمة، المكونات الإلكترونية، المعادن المسحوقة، وتطبيقات الطاقة الجديدة.أفراننا تدعم العديد من العمليات الحرارية بما في ذلك التجمد، إزالة الدهن ، المعالجة الحرارية ، وتقوية المواد للصناعات مثل إنتاج MLCC / HTCC / LTCC ، والمواد المغناطيسية ، وتصنيع بطاريات الليثيوم.